Targed sputtering twngsten
2. Catalog: Cynnyrch Twngsten
3. Deunydd: Twngsten
4. Purdeb: yn fwy na neu'n hafal i 99.95%
5. Dwysedd: 19.3 g\/cm³
6. Siâp: targed awyren, targed cylchdroi, targed sputtering, targed sgwâr, targed tiwb, targed wedi'i addasu gyda siâp afreolaidd.
7. Manyleb: Pwysau wedi'i addasu, targed sy'n llai na neu'n hafal i 300kg\/pcs.
8. Arwyneb: Arwyneb wedi'i rolio'n oer, arwyneb wedi'i lanhau'n gemegol, arwyneb caboledig
9. Cais: gorchudd sputtering magnetron
10. Safon: ASTM B760, GB\/T 3875-83
11. Lle Tarddiad: Luoyang, China.
Cyflwyniad
Mae'r targed sputtering twngsten yn ddeunyddiau purdeb uchel a ddefnyddir yn y broses sputtering, dull dyddodiad anwedd corfforol (PVD) a ddefnyddir i adneuo ffilmiau tenau ar arwynebau. Mae Twngsten yn fetel sy'n adnabyddus am ei bwynt toddi uchel (tua 3422 gradd), caledwch, a dargludedd trydanol rhagorol, gan ei wneud yn ddeunydd delfrydol ar gyfer targedau sputtering mewn amrywiol ddiwydiannau, megis electroneg, opteg a gweithgynhyrchu lled -ddargludyddion.
Nodweddion
Ymwrthedd tymheredd uchel rhagorol
Mae gan Tungsten bwynt toddi o hyd at 3422 gradd, gan roi ymwrthedd tymheredd uchel rhagorol iddo. Yn ogystal, yn ystod y broses sputtering, gall y targed twngsten wrthsefyll bomio ïonau ynni uchel ac nid yw'n hawdd ei ddadffurfio na'i ddiraddio. Mae hyn yn caniatáu i'r targed twngsten weithredu'n sefydlog mewn amgylcheddau tymheredd uchel ac ynni uchel.
Gwrthiant cyrydiad
Mae gan ddeunyddiau twngsten ocsidiad da a gwrthsefyll cyrydiad. Mewn amgylcheddau tymheredd uchel neu gemegol, gall targed sputtering twngsten wrthsefyll ocsidiad, asid a chyrydiad alcali yn effeithiol, gan sicrhau bod y targed yn cynnal perfformiad da yn ystod prosesau sputtering lluosog.
Ystod eang o ddefnyddiau
Defnyddir ein cynnyrch yn helaeth mewn lled -ddargludyddion, optoelectroneg, deunyddiau magnetig a meysydd eraill. Yn y diwydiant lled -ddargludyddion, defnyddir ffilmiau tenau twngsten yn y broses feteleiddio cylchedau integredig. Yn y maes optegol, defnyddir ffilmiau tenau twngsten i gynhyrchu adlewyrchyddion neu ddeunyddiau cotio.
Cyfansoddiad Cemegol Cynnyrch
|
Cyfansoddiad cemegol targed twngsten |
|||||||||||||||
|
W Nghynnwys (%) |
Cynnwys amhuredd (ppm) |
||||||||||||||
|
TiCity name (optional, probably does not need |
NA |
C |
CA |
Mg |
Os |
Han |
Fel |
Fefau |
NI |
PB |
P |
Mewngofnodi |
/ |
/ |
|
|
Yn fwy na neu'n hafal i 99.95% |
Llai na neu'n hafal i 10 ppm |
Llai na neu'n hafal i 5 ppm |
Llai na neu'n hafal i 20 ppm |
Llai na neu'n hafal i 10 ppm |
Llai na neu'n hafal i 7ppm |
Llai na neu'n hafal i 10 ppm |
Llai na neu'n hafal i 5 ppm |
Llai na neu'n hafal i 10 ppm |
Llai na neu'n hafal i 10 ppm |
Llai na neu'n hafal i 6 ppm |
Llai na neu'n hafal i 1 ppm |
Llai na neu'n hafal i 8 ppm |
Llai na neu'n hafal i 5 ppm |
/ |
/ |
Paramedrau Perfformiad Cynnyrch
|
Paramedrau perfformiad targed sputtering twngsten |
|
|
Dimensiynau sampl |
12mm × 80mm × 100mm |
|
Burdeb |
Yn fwy na neu'n hafal i 99.95% (3N5) |
|
Strwythur grisial |
Ciwbig sy'n canolbwyntio ar y corff (BCC) |
|
Maint grawn |
43μm |
|
Ddwysedd |
19.25 g\/cm3 (clun) |
|
Pwynt toddi |
3410 gradd (+ 20 gradd) |
|
Berwbwyntiau |
5900 gradd |
|
Dargludedd thermol |
173 W/(m·K) |
|
Dargludedd trydanol |
18.3×10-6 S/m |
|
Cyfernod ehangu thermol |
4.5×10-6/K-1 |
|
Caledwch |
Hv5: 280-310 |
|
Gorffeniad arwyneb |
RA yn llai na neu'n hafal i 0. 4μm |
Proses Cynhyrchu Cynnyrch
Tagiau poblogaidd: targed sputtering twngsten, gweithgynhyrchwyr targed sputtering twngsten Tsieina, cyflenwyr, ffatri
Fe allech Chi Hoffi Hefyd
Anfon ymchwiliad